Mask designed to protect against fine dust and acid and inorganic vapours. This mask is particularly recommended for protection against: sulphur dioxide and hydrochloric, hydrofluoric and hydrobromic acids., Formowany = Tak, Klasa ochrony = FFP1, Z zawore
Ta witryna używa ciasteczek (cookies), dzięki którym może służyć Państwu lepiej - polityka plików cookies.